機(jī)械制樣

研 磨

粗 磨

一般材料都用砂輪機(jī)粗磨。操作時(shí)應(yīng)利用砂輪側(cè)面，以保證試樣磨平。要注意接觸壓力不宜過(guò)大同時(shí)要不斷用水冷卻，防止溫度升高造成內(nèi)部的組織發(fā)生變化。粗磨完成后，試樣外邊緣應(yīng)倒角，以免在以后的工序過(guò)程中會(huì)將砂紙或拋光物拉裂，甚至還可能會(huì)被拋光物鉤住而被拋飛出外，造成事故。

鑲樣倒角

精 磨

細(xì)磨的目的是消除粗磨遺留下來(lái)的深而粗的磨痕，為拋光做準(zhǔn)備。細(xì)磨本身包括多道操作，即在各號(hào)砂紙上從粗到細(xì)順序進(jìn)行。目前，主流的精磨方式為濕式機(jī)械精磨，細(xì)精磨時(shí)一般依次從W40號(hào)開(kāi)始，逐一更換細(xì)一號(hào)的砂紙推磨，一般鋼鐵試樣磨到W10號(hào)砂紙，軟材料如鋁、鎂等合金可磨到W5號(hào)砂紙。每換下一號(hào)細(xì)砂紙時(shí)，應(yīng)將磨面方向應(yīng)旋轉(zhuǎn)90°，以便觀察上次磨痕是否磨掉。在細(xì)磨較軟的金相試樣時(shí)，如鋁、鎂、銅等有色金屬是應(yīng)該在砂紙上涂一層潤(rùn)滑劑，可防止砂粒嵌入軟金屬材料內(nèi)，同時(shí)減少表面撕損現(xiàn)象。

拋光

中科儀器研磨和拋光設(shè)備

拋光的目的是除去金相試樣磨面上由細(xì)磨留下的磨痕，成為平整無(wú)疵的鏡面。拋光結(jié)果在很大程度上取決于前幾道工序的質(zhì)量，故拋光之前應(yīng)仔細(xì)檢查磨面磨痕是否為單一方向且均勻，否則應(yīng)重新磨光，以免浪費(fèi)時(shí)間。

拋光通常在專用的金相樣品拋光機(jī)上灑以適量的拋光液后進(jìn)行，轉(zhuǎn)速一般在200~600r/min，粗拋時(shí)轉(zhuǎn)速較高，精拋或拋軟材料時(shí)轉(zhuǎn)速較低。在拋光盤上蒙一層織物，粗拋時(shí)常用帆布、粗呢等，精拋時(shí)常用絨布、細(xì)呢金絲絨與絲綢等。

拋光耗材

拋光注意事項(xiàng):

拋光時(shí)將試樣的磨面應(yīng)均勻地、平整地壓在旋轉(zhuǎn)的拋光盤上。壓力不宜過(guò)大，并從邊緣到中心不斷地作徑向往復(fù)移動(dòng)。

拋光過(guò)程中要不斷噴灑適量的拋光液。若拋光布上拋光液太多，會(huì)使鋼中夾雜物及鑄鐵中的石墨脫落，拋光面質(zhì)量不佳;若拋光液太少，將使拋光面變得晦暗而有黑斑。

后期應(yīng)使試樣在拋光盤上各方向轉(zhuǎn)動(dòng)，以防止鋼中夾雜物產(chǎn)生拖尾現(xiàn)象。

盡量減少拋光面表層金屬變形的可能性，整個(gè)拋光時(shí)間不宜過(guò)長(zhǎng)，磨痕全部消除，出現(xiàn)鏡面后，拋光即可停止。試樣用水沖洗或用酒精洗干凈后就可轉(zhuǎn)入浸濕或直接在顯微鏡下觀察。